輝光放電光譜儀

質量控制、新材料研發(fā)的工具 

表面處理工藝 表面涂層工藝 經材料和工藝處理過的近表面 可準確分析化學成分和涂層厚度 可分析非導電材料和涂層，如玻璃、陶瓷、類金剛石、防腐涂層，唯YI的非導體、半導體深度剖面快速分析手段

GDOES儀器提供了一種對具有層狀結構的材料快速深度剖面分析的手段

相對于電鏡、俄歇等微區(qū)分析技術而言，GDOES具備大區(qū)域分析能力，，可完整表征材料的宏觀組分

材料前處理、制備技術簡單、快速，分析效率高  

GDOES應用的領域，典型領域如下：

·金屬工業(yè)·汽車工業(yè)與汽車供應商·鋼鐵工業(yè)·電鍍工業(yè)·精密機械工業(yè)·航空航天部門·半導體材料·光伏產業(yè)

·PVD/CVD·制藥工業(yè)(載體、人GONG骨GE/關節(jié).….)·電子工業(yè)·塑料工業(yè)·玻璃陶瓷工業(yè)·表面技術·  研發(fā)大學

輝光放電光譜儀應用

測試元素：氫(H)-鈾(U),~76個元素

含量范圍：0.Xppm級至%含量

測試深度：表面(納米)至幾百個微米

測試精度：含量-RSD優(yōu)于2%深度-RSD優(yōu)于5%

涂鍍層種類：-PVD/CVD/ECD-電鍍(鋅、銅、鎳、鉻、鈦、錫等各類金屬涂鍍層)-磷化、鈍化等各類化學層-薄膜電池/柔性電池(CIGS,LIB...),-非晶硅、碲化鎘、銅鋅錫硫化物等-類金剛石涂層-熱處理(滲碳、滲氮、共滲等….)-真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜

適合樣品：-導體材料表面各類涂鍍層(導體或非導體)-非導體材料表面各類涂鍍層(導體或非導體)-薄膜/柔性材料表面各類涂鍍層

測試樣品形態(tài)：-固態(tài)：平面、曲面

薄膜

空氣中易氧化膜(可提供特殊封裝樣品倉)

使用GDOES輝光放電光譜儀的分析優(yōu)點

·精確的分析性能：(幾乎)元素周期表的所有元素都可以分析，包括氫、氧、氮、碳、

氟、氯等

·低檢測限：低至0.Xppm

·重現性好

·可分析的極薄層(納米級)

·可分析的導電和非導電樣品

·無需費力制備樣品

·分析時間短→結果快

·易于操作的儀器和軟件-WinGDOES

·極低運行成本

GDOES以優(yōu)異的性價比為固體材料的深度剖面和元素含量分析提供高性能技術。某種角度上，GDOES是GDMS、AUGER、XRF、SEM、SNMS、SIMS等現有方法的一個很好的替代品，且成本顯著降低。