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        型號(hào):

        自動(dòng)化鍍層厚度測(cè)試儀

        描述:自動(dòng)化鍍層厚度測(cè)試儀廣泛應(yīng)用于電子連接器企業(yè)、鋁合金鍍鋅、鍍鎳、鍍錫等企業(yè)、電鍍及電鍍加工企業(yè)、五金工具企業(yè)、印刷線路板企業(yè)、電子和半導(dǎo)體企業(yè),完善的質(zhì)量體系和售后服務(wù)團(tuán)隊(duì),保證了用戶的使用和后期維護(hù)。

        • 廠商性質(zhì)

          經(jīng)銷商
        • 更新時(shí)間

          2025-05-18
        • 訪問量

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        詳細(xì)介紹
        品牌其他品牌行業(yè)專用類型通用
        價(jià)格區(qū)間面議儀器種類臺(tái)式/落地式
        應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子/電池,包裝/造紙/印刷

        XAU光譜分析儀儀器簡介:

        XAU光譜分析儀是一款設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)緊湊,模塊精密化程度*的光譜分析儀,采用了下照式C型腔體設(shè)計(jì),是一款一機(jī)多用型光譜儀。

        應(yīng)用核心EFP算法和微光聚集技術(shù),既保留了專用測(cè)厚儀檢測(cè)微小樣品和凹槽的性能,又可滿足微區(qū)RoHS檢測(cè)及成分分析。

        被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測(cè)量使用。


        產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):

        • 微小樣品檢測(cè):最小測(cè)量面積0.03mm2(加長測(cè)量時(shí)間可小至0.01mm2)

        • 變焦裝置算法:可改變測(cè)量距離測(cè)量凹凸異形樣品,變焦距離可達(dá)0-30mm

        • 自主研發(fā)的EFP算法:Li(3)-U(92)元素的涂鍍層,多層多元素,甚至有同種元素在不同層也可精準(zhǔn)測(cè)量

        • *解譜技術(shù):減少能量相近元素的干擾,降低檢出限

        • 高性能探測(cè)器:SDD硅漂移窗口面積25/50mm2探測(cè)器

        • 光路系統(tǒng):微焦加強(qiáng)型射線管搭配聚焦、光路交換裝置


        應(yīng)用領(lǐng)域:

        廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)、新能源行業(yè)、5G通訊、五金建材、航天航空、環(huán)保行業(yè)、汽車行業(yè)、貴金屬檢測(cè)、精密電子、電鍍行業(yè)等多種領(lǐng)域

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        多元迭代EFP核心算法ZL號(hào):2017SR567637)

        專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上,計(jì)算樣品中每個(gè)元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強(qiáng)效應(yīng)、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā)出EFP核心算法,結(jié)合*光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng),只需要少量的標(biāo)樣來校正儀器因子,可測(cè)試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機(jī)物層的厚度及成分含量。

        單涂鍍層應(yīng)用:如Ni/Fe、Ag/Cu等

        多涂鍍層應(yīng)用:如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等

        合金鍍層應(yīng)用:如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等

        合金成分應(yīng)用:如NiP/Fe,通過EFP算法,在計(jì)算鎳磷鍍層厚度的同時(shí),還可精準(zhǔn)分析出鎳磷含量比例。

        重復(fù)鍍層應(yīng)用:不同層有相同元素,也可精準(zhǔn)測(cè)量和分析。

        如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB,第一層Ni和第三層Ni的厚度均可測(cè)量。

        性能優(yōu)勢(shì)

         

        自動(dòng)化鍍層厚度測(cè)試儀定位激光確定定位光斑,確保測(cè)試點(diǎn)與光斑對(duì)齊

        鼠標(biāo)可控制移動(dòng)平臺(tái),鼠標(biāo)點(diǎn)擊的位置就是被測(cè)點(diǎn)

        高分辨率探頭使分析結(jié)果更加精準(zhǔn)

        自動(dòng)化鍍層厚度測(cè)試儀良好的射線屏蔽作用

        測(cè)試口高度敏感性傳感器保護(hù)

        滿足各種不同厚度樣品以及不規(guī)則表面樣品的測(cè)試需求

        *小φ0.1mm的小孔準(zhǔn)直器可以滿足微小測(cè)試點(diǎn)的需求

        高精度移動(dòng)平臺(tái)可精確定位測(cè)試點(diǎn),重復(fù)定位精度小于0.005mm

        采用高度定位激光,可自動(dòng)定位測(cè)試高度

         

         

        技術(shù)指標(biāo)

         

        任意多個(gè)可選擇的分析和識(shí)別模型

        相互獨(dú)立的基體效應(yīng)校正模型

        多變量非線性回收程序

        自動(dòng)化鍍層厚度測(cè)試儀長期工作穩(wěn)定性高

        度適應(yīng)范圍為15℃至30℃

        元素分析范圍從硫(S)到鈾(U)中間的任意金屬鍍層

        一次可同時(shí)分析多達(dá)五層鍍層

        *薄可測(cè)試0.005μm

        分析含量一般為2ppm到99.9%

        鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)(每種材料有所不同)

        電源: 交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源

        儀器尺寸:576(W) x 495 (D) x 545(H) mm

        重量:90 kg


         

        測(cè)試實(shí)例

         

        鍍鎳器件是比較常見的電鍍器件,其鎳鍍層在保護(hù)銅基體免受氧化同時(shí)還能起到美觀的作用。這里以測(cè)試客戶的一件銅鍍鎳樣品為例說明此款儀器的測(cè)試效果。

        以下使用Thick800A自動(dòng)化鍍層厚度測(cè)試儀對(duì)銅鍍鎳樣品實(shí)際測(cè)試Ni層厚度,七次的結(jié)果其標(biāo)準(zhǔn)偏差和相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差。且可在樣品上進(jìn)行精確定位測(cè)試,其測(cè)試位置如圖。

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        銅鍍鎳件自動(dòng)化鍍層厚度測(cè)試儀譜圖

         

          

        成分Ni(%)

        鍍層Ni(um)

        吊扣

        100

        19.321

        吊扣2#

        100

        19.665

        吊扣3#

        100

        18.846

        吊扣4#

        100

        19.302

        吊扣5#

        100

        18.971

        吊扣6#

        100

        19.031

        吊扣7#

        100

        19.146

        平均值

        100

        19.18314

        標(biāo)準(zhǔn)偏差

        0

        0.273409

        相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差

        0

        1.425257

        銅鍍鎳件測(cè)試值

         

        測(cè)試結(jié)論

         

        實(shí)驗(yàn)表明,使用Thick800A自動(dòng)化鍍層厚度測(cè)試儀對(duì)鍍件膜厚測(cè)試,結(jié)果準(zhǔn)確度高,速度快(幾十秒),其測(cè)試效果*可以和顯微鏡測(cè)試法媲美。

         

        應(yīng)用領(lǐng)域

         

        自動(dòng)化鍍層厚度測(cè)試儀廣泛應(yīng)用于電子連接器企業(yè)、鋁合金鍍鋅、鍍鎳、鍍錫等企業(yè)、電鍍及電鍍加工企業(yè)、五金工具企業(yè)、印刷線路板企業(yè)、電子和半導(dǎo)體企業(yè)


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